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PCE-6V 小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物，清洗程度可達(dá)到分子級。另外，其樣品臺可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。

PDC-36G 等離子清洗機(jī)是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機(jī)。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機(jī)物污染。在射頻電源的作用下，去除速率大每分鐘10納米。在單晶材料外延薄膜生長以前進(jìn)行預(yù)處理，對生長具有顯著的作用 。

PCE-80 8.5英寸等離子清洗機(jī)是一款較大型的等離子清洗機(jī)，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)可調(diào)節(jié)。此款設(shè)備主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等）。對于基片的清洗以及薄膜處理此款設(shè)備是較為理想的實驗幫手。

PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機(jī)是一款較大型的500W等離子刻蝕清洗機(jī)，等離子腔體為 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔體，采用的射頻電源頻率為13.56MH，功率0 -500W連續(xù)可調(diào)節(jié)。此款設(shè)備功率高，可用于等離子刻蝕、等離子灰化、表面改性以及材料摻雜改性等應(yīng)用，對于基片的清洗以及薄膜處理此款設(shè)備是較為理想的實驗幫手。

GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下，迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學(xué)元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質(zhì)量的外延薄膜或者光學(xué)涂層，預(yù)*行表面處理可以得到顯著的效果。